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スパッタリングターゲット材、蒸着材料ならUSTRON(アストロン)

事業案内

光学薄膜材料

USTRON(アストロン)は2002年から中国の自社工場にて、真空蒸着に使用される各種高純度蒸着材料を製造・販売しております。

酸化物、フッ化物、硫化物及び純金属など、多種多様な真空蒸着材料を提供しており、ハースライナーに応じた形状・サイズの薄膜材料での製作も可能です。

お客様の様々なニーズへ対応しております。

低屈折率材料

製品名化学記号屈折率
(550nm)
アーチ状タブレット顆粒状 
フッ化マグネシウム MgF2 1.38 -  
フッ化カルシウム CaF2 1.42 - -
二酸化ケイ素 SiO2 1.46  
MU1 SiO2+Al2O3 1.48 - -  

中間屈折率材料

製品名化学記号屈折率
(550nm)
アーチ状タブレット顆粒状 
フッ化ランタン LaF3 1.58 - -
フッ化セリウム CF3 1.63 - -
酸化アルミニウム Al2O3 1.63  
酸化マグネシウム MgO 1.70 - -
MG-01 Al2O3+La2O3 1.70 - -
酸化イットリウム Y2O3 1.87 - -

高屈折率材料

製品名化学記号屈折率
(550nm)
アーチ状タブレット顆粒状 
一酸化ケイ素 SiO 1.90 -  
酸化ハフニウム HfO2 1.95 -
酸化ジルコニウム ZrO2 2.05  
GL2 Ta2O5+ZrO2 2.10 - -
五酸化タンタル Ta2O5 2.10 -  
MU5 ZrO2+TiO2 2.10 -  
MU2 LaTiO3 2.10 -  
GL7 Ta2O5+TiO2 2.13 -
MU2-C LaTiO3 2.15 -
五酸化ニオプ Nb2O5 2.25 - -  
酸化セリウム CeO2 2.35 - -
一酸化チタン TiO 2.35 -  
二酸化チタン TiO2 2.35 -
三酸化二チタン Ti2O3 2.35 -
MU3 Ti3O5 2.35 -  
硫化亜鉛 ZnS 2.4/1200nm - -
シリコン Si 3.4/3000nm -  
ゲルマニウム Ge 4.4/2000nm -

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