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スパッタリングターゲット材、蒸着材料ならUSTRON(アストロン)

会社案内

沿革

1994年

株式会社SUN&CORAL( USTRONの前身)を東京都新宿区に設立。
1998年 浩發通商株式会社(USTRONの前身)を東京新宿区に設立。
1999年 DWDM用真空蒸着装置向け大口径溶融石英硝子リングのシリーズ化。

2000年

本社を東京都台東区上野に移転。

光学石英硝子の生産・販売の為、上海USTRON石英硝子公司を設立。

2002年 光学薄膜材料、関連電子部品の製造及び販売の為、福州USTRON光電子材料有限公司を設立。
2003年

社名をUSTRON株式会社に改称。

USTRONを商標登録(中国)。

2004年

USTRONを商標登録(日本)。

USTRON(福建)光学科技有限公司を設立。

2009年

USTRON(福建)光学科技有限公司が新工場に移転。(延床面積:18,000㎡、敷地面積:21,000㎡ )

2010年

生産拡張の為、福州USTRON光電子材料有限公司が新工場に移転。

生産拡張の為、上海USTRON石英硝子が上海市宝山区から嘉定区に移転。

2011年

生産拡張の為、福州現工場敷地内に延床5,000㎡の新社屋を竣工。

2013年1月

福建阿石創新材料股份有限公司、英社名をACETRONに変更。

資本金5,880万中国元に増資。

2014年9月

本社事務所業務拡張に伴い現在地(台東4丁目14番8号シモジンパークビル)に移転。

2017年9月 グループ会社ACETRON、 深圳証券取引所に上場。
2018年10月 業務拡張に伴い台東区台東1丁目22番4号アストロン台東ビルに新事業所設置。

 

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